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专利名称：红外屏蔽膜的制造方法专利类型：发明专利发明人：坂田和彦,斋藤笃志申请号：CN201480028070.6申请日：20140512公开号：CN105228755A公开日：20160106
摘要：本发明的目的在于提供涂布面几乎不产生或者完全不产生不均、具有良好外观的红外屏蔽膜的制造方法。本发明的红外屏蔽膜的制造方法包括在连续行进的基材膜上使用滑斗涂布装置将高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液同时复层涂布10层～40层的工序，上述高折射率层用涂布液和上述低折射率层用涂布液在40℃的粘度为5～200mPa·s，上述滑斗型涂布装置的滑动面相对于水平面的角度为2～15°，上述滑斗型涂布装置的每一个挡料块的厚度为15～40mm。
申请人：柯尼卡美能达株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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