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专利名称：一种负离子釉喷釉装置专利类型：实用新型专利发明人：全春辉
申请号：CN201820514261.9申请日：20180412公开号：CN208148143U公开日：20181127
摘要：本实用新型涉及一种负离子釉喷釉装置，其包括输送装置以及喷涂装置；输送装置包括输送台车、底座以及防釉罩，输送台车向两侧延伸地设置有滑轮轴，滑轮轴铰接有滑轮，底座上固定设置有导轨；滑轮分别放置在导轨上；防釉罩固定设置在底座上、且包围导轨，防釉罩设置有导轴槽，滑轮轴穿过导轴槽；防釉罩的顶端还固定设置有防釉风管；防釉风管沿防釉风管设置有若干向下开口的风管嘴。本实用新型不会向内吹动雾状的负离子釉、降低负离子釉喷涂的均匀度，同时也可以防止从喷涂装置喷出的雾状的负离子釉从导轴槽进入到防釉罩内、需要经常清理导轨以及滑轮；负离子釉料在喷出前，在静态混合器内被均匀地搅拌，可以保证负离子釉料的均匀度。
申请人：佛山市陶莹新型材料有限公司
地址：528000 广东省佛山市禅城区塱宝西路62号四座1004室
国籍：CN
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