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专利名称：载置台和基板处理装置专利类型：发明专利
发明人：塚原利也,佐藤充明,佐佐木淳一,尹南虎,徐智洙申请号：CN201911070184.8申请日：20191105公开号：CN111146065A公开日：20200512
摘要：本发明提供载置台和基板处理装置。对边缘环与静电卡盘之间的相对的侧壁的间隙进行管理。提供一种载置台，该载置台具有：边缘环，其配置于基板的周围；静电卡盘，其具有载置所述基板的第1载置面和载置所述边缘环的第2载置面；以及具有伸缩性的构件，其配置于所述静电卡盘的所述第1载置面和所述第2载置面之间的侧面与所述边缘环的内径面之间，且是配置于低于所述第1载置面的位置。
申请人：东京毅力科创株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
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