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专利名称：确定用于处理光刻掩模的缺陷的修复形状的装置和
方法
专利类型：发明专利
发明人：J.奥斯特,M.韦布林杰申请号：CN201880016925.1申请日：20180227公开号：CN1104199A公开日：20191105
摘要：本发明关于用于确定用于处理光刻掩模(100)的至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的方法，其包含以下步骤：(a)决定至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的至少一个校正值(185)，其中校正值(185)考虑光刻掩模(100)的至少一个图案元素(130)的位置(175)，该至少一个图案元素没有接触至少一个缺陷(140)；以及(b)通过应用至少一个校正值(185)来校正修复形状(195)。
申请人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
地址：德国上科亨
国籍：DE
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：王蕊瑞
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